半導体製造ガス供給
半導体製造は、ほぼどの産業よりも多くの特種ガスを使用し、それぞれのガスはバルブの連鎖を経てツールに到達します。ボンベキャビネットからバルブマニホールドボックスを経てプロセスチャンバーの使用点隔離に至るまで、すべてのバルブは純度を守り、位置を証明し、インターロックで安全に閉止しなければなりません。
ppb レベルの汚染でも膜特性を変え、ウェハロットを失うことがあります。そのためファブのガスシステムは、電解研磨された接液面、VCR フェイスシール接続、ヘリウムリーク証明を備えた UHPダイヤフラムバルブに標準化しています。
ガスおよびバルブの要件
シラン、ジクロロシラン、アンモニア、三フッ化窒素、塩化水素、塩素、アルシン、ホスフィンは、接液材料に大きく異なる要求を課します。自然発火性・有毒ガスには、安全状態が実証されたノーマルクローズ空圧バルブが必要です。腐食性ハライドには適合するダイヤフラム合金が必要です。
- 堆積：SiH4、DCS、NH3、NF3
- エッチング：Cl2、HCl、HBr、NF3
- ドーパント：キャリアガス中のAsH3、PH3、B2H6
- バルク：N2、Ar、He、H2、O2
ガスヤードから使用場所まで
典型的な経路は、ボンベバルブ、高圧隔離、二段式レギュレータ、VMB プロセス／パージバルブ、配管ヘッダー、VMP 分岐バルブ、最後に装置側の使用点 UHPダイヤフラムバルブです。各分岐はチェックバルブで逆移動から保護されます。
- ガスヤードのボンベとレギュレータ
- パージおよびベントインターロック付きVMB
- VMP支店流通
- 使用箇所のUHPダイヤフラム隔離
適格性と文書化
ファブのプロジェクトには通常、ヘリウムリーク試験記録、材料トレーサビリティ、表面仕上げデータ、クリーンルーム包装の証跡が必要です。パネル単位ではなくバルブ単位で収集すれば、装置の認定と後年の拡張が簡素化されます。
- バルブごとのヘリウム漏れ記録
- 材質および表面仕上げの証明書
- クリーンルーム用二重袋包装
推奨されるバルブファミリー
UHPダイヤフラムバルブ
特殊ガス供給用の超高純度ダイヤフラムバルブ。316L VIM/VARボディ
空気圧式ダイヤフラムバルブ
自動ガスパネルおよび VMB/VMP システム向け 空圧作動 UHPダイヤフラムバルブ。ノーマルクローズ
ガスバルブマニホールド＆VMB
特種ガスバルブマニホールドボックス、バルブマニホールドパネル、自動切替システムの製作
よくあるご質問
ファブのUHPラインの標準的なバルブの種類はどれですか？
VCR フェイスシール端部のノーマルクローズ空圧 UHPダイヤフラムバルブが標準です。手動バルブは保守隔離に使用されます。
フェイスシール接続が好まれるのはなぜですか？
これらは最小のデッドボリュームで再現性のある金属対金属シールを与え、溶接ヘッダーに影響を与えず再締結できます。